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　　久久地此是　　1974年9月，国家计委在北京召开全国大规模集成电路及其基础材料大会战会议，要求在1974至1976年会战期间，突破大规模集成电路工艺技术、设备制造和基础材料的技术关键。 

　　　　前述光刻技术专家分析说，从每个企业的角度来讲，光刻机研发周期长，涉及全球供应链，企业在自主研发时是没有底气的。再者，虽然中国可以自产90纳米工艺光刻机，但实际上，很多企业只买了一两台试用或作为备用，“并没有达到我们当初的设想”，即实现大规模的国产替代。在他看来，如今因为一些外部大环境问题，光刻机被“卡脖子”，但如果未来有一天放开，还可能会再度出现1990年代国内芯片制造商更青睐国外光刻机，进而造成自主研发停滞的情景。“国家更多考虑的是战略层面，如果未来限制放开，国产光刻机品牌能否活得下去？”因此，光刻机的研发既关系到国家战略，又涉及市场的问题，需要全盘考虑。